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Fakultät Ingenieurwissenschaften

Plasma- und Oberflächentechnik

Standort Hof Raum C 008

Im Labor Plasma- und Oberflächentechnik der Hochschule Hof stehen Verfahren zur physikalischen Gasphasenabscheidung zur Verfügung. Mehr über diese Verfahren und deren Einsatzmöglichkeiten können Sie weiter unten auf dieser Seite erfahren.

Eine für diese Beschichtungen notwendige Haftung auf den Substraten wird durch passende Vorbehandlungen erreicht, welche ebenfalls in diesem Labor durchgeführt werden können. Hierfür werden verschiedene Verfahren, wie z.B. Ultraschallreinigung und Plasmabehandlung, eingesetzt. Auch hierzu finden Sie nähere Informationen auf dieser Seite.

Bei weiteren Fragen oder ausführlicheren Details zu den Anlagen wenden Sie sich bitte an den Laborleiter Prof. Dr. Jörg Krumeich.

Labor Plasma- und Oberflächentechnik C008

Laborleiter

Personen

Prof. Dr. Jörg Krumeich

Institut für Materialwissenschaften (ifm)
Forschungsgruppenleiter FG Oberflächenfunktionalisierung und -beschichtung

Fakultät Ingenieurwissenschaften

Prof. Dr. Jörg Krumeich | Hof University of Applies Sciences

Kontaktdaten

Anschrift

Hochschule Hof
Alfons-Goppel-Platz 1
95028 Hof

Standort

Campus Hof | Gebäude C | Raum C119

Sprechzeiten

Donnerstag: 13:00 - 14:00
Vereinbarung per eMail

Lehrgebiet

Oberflächentechnik


 

PVD-Beschichtung von Schachfiguren

Plasma- und PVD-Beschichtungsanlagen

Dreva Arc 400 von VTD

Zum Aufbringen von funktionellen Schichten auf Flächenware und 3D-Objekten verfügt die Hochschule Hof über die Anlage DREVA Arc 400 der Firma VTD. Die zu beschichtenden Substrate müssen allerdings vakuumkompatibel sein. Durch die große Auswahl an Beschichtungsmaterialien und die Zugabe von Reaktionsgasen können reine Metalle, Legierungen, Metalloxide, -nitride, -carbide und Mischungen daraus als Schichten erzeugt werden. Die Beschichtungen sind auf unterschiedlichste Anforderungen anpassbar. Definierte, homogene und reproduzierbare Funktionsschichten, wie z. B.  harte und verschleißfeste Beschichtungen, sogenannte Hartstoffschichten, können abgeschieden werden.  Weitere Beispiele für Funktionalitäten sind: Erzeugung einer elektrischen Leitfähigkeit, Verbesserung der Biokompatibilität und Haftvermittlung. Auch Kombinationen aus mehreren Eigenschaften sind teilweise möglich.

Die PVD-Anlage bietet nicht nur im funktionellen, sondern auch im dekorativen Bereich hervorragende Möglichkeiten. Mittels der PVD-Verfahren Arc-Verdampfen und Sputtern entstehen neuartige Oberflächendesigns mit Metallcharakter in großer Vielfalt, brillanter Farbqualität und ausgewählter Exklusivität.

Univex 450 von Leybold

Die Anlage Univex 450 der Firma Leybold arbeitet mit dem Verfahren der thermischen Verdampfung. Dabei werden niedrigschmelzende Metalle, wie zum Beispiel Aluminium, in einer Vakuumkammer verdampft und kondensieren als dünne Schicht auf dem Substrat. Vakuumkompatible Substrate werden dadurch in der Anlage metallisiert. Als Quelle der Widerstandsbedampfung dienen Schiffchen oder Glühwendel.

Faserbeschichtungsanlage (Rolle-zu-Rolle)

Diese spezielle Anlage wurde für die Beschichtung von Filamenten, Garnen oder Bändern entwickelt. Vakuumkompatible Substrate mit bis zu ca. 50 mm Breite und mehreren 100 m Länge sind verarbeitbar und laufen innterhalb der Vakuumkammer von der Abwickelrolle kontinuierlich durch die Beschichtungszone zur Aufwickelrolle. Durch die große Auswahl an Beschichtungsmaterialien und die Möglichkeit der Zufuhr von Reaktionsgasen können reine Metalle, Legierungen, Metalloxide, -nitride, -carbide und Mischungen daraus als Schichten mittels Sputtern erzeugt werden. Sowohl planare Magnetrons als auch auf ein Rohrmagnetron, welches eine effektive Rundumbeschichtung der Substrate bei sehr geringem Materialverbrauch gestattet, stehen zur Verfügung.

META B 30.1 von VTD

Eine Anlage, die speziell für Praktika der Studenten der Hochschule Hof benutzt wird, ist die Hochvakuum-Bedampfungsanlage META B 30.1 der Firma VTD. Hier werden durch thermische Verdampfung dünne Schichten auf vakuumkompatiblen Substraten erzeugt. In dieser Anlage wird ausschließlich Aluminium als Beschichtungsmaterial verwendet.

Niederdruckplasmaanlage Plasma-Processor 3017-G

In der Anlage erfolgt die Vorbehandlung von Substraten durch Mikrowellenplasma im Niederdruckbereich. Insbesondere werden polymere Werkstoffe plasmabehandelt, um die Benetzbarkeit und die Haftung nachfolgender Beschichtungen zu verbessern. Aber auch andere Materialien, wie Glas, Keramik und Metalle können zur Feinstreinigung plasmabehandelt werden.

Apparative Ausstattung

Beim Tampomark Plasma 100 handelt es sich um ein Handgerät zur Atmosphärendruck-Plasmabehandlung mittels Plasmadüse mit einer Leistung bis zu 600 W, einer maximalen Vorbehandlungsfläche von 10 mm im Durchmesser oder 18x3 mm.

Beim Vorbehandlungsgerät M von MOST-Industrieprodukte handelt es sich um ein Gerät zur Hand-Silikatisierung von Oberflächen größerer Werkstücke zur Verbesserung der Haftfestigkeit. 

Der automatisierte Messaufbau zur Transmissionsmessung mit unterschiedlichen Lichteinfallswinkeln besteht aus einem Trägerrahmen mit Lichtquelle sowie einem Probenträgertisch mit Drehkranz zur Rotation der Proben und einem Sensor zur Messung der Bestrahlungsstärke. Die Bewegungen des Hebelarms und des Drehtellers erfolgen über Servomotoren, die mit Hilfe von Potentiometern geregelt werden. USB-Schnittstellen ermöglichen die Datenübertragung zur gesamten Steuerung des Messaufbaus sowie zur Aufzeichnung und Speicherung der Messwerte durch den PC

Montierter Bausatz mit CNC-Technik. Die ntegrierte Steuerungselektronik ermöglicht einen einfachen Anschluss an den Computer über USB-Schnittstelle.